多功能磁控溅射仪
一、镀膜蒸发源
“源"的作用是提供镀膜的材料（或被镀材料中的某种组分)。通过物理或化学的方法使镀膜材料成为气态物质。
热丝CVD金刚石设备
二、迁移过程
迁移过程都是在气相中进行的，在气态物质迁移时，为了保证膜层的质量，一般都是在真空或惰性气氛中进行，并施加电场、磁场或高频等外界条件来进行活化以增加到达基底上的气态物质的能量，提供气态物质发生反应的能量，即提供气态物质反应的激活能。
分子束外延系统MBE
三、凝膜
薄膜在基底上的形成过程是一个复杂的过程，它包括:膜的形核、长大，膜与基底表面的相互作用等等。
电子束蒸镀机
近年来，真空镀膜设备的薄膜制作还在基底上施加电场、磁场、离子束轰击等辅助手段，其目的都是为了控制疑聚成膜的质量和性能。根据成膜方法的基本原理,可以将其分为物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）和兼有物理和化学方法的等离子体增强化学气相沉积法等。
等离子体增强化学气相沉积PECVD设备
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