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PECVD设备
  • PECVD设备
  • PECVD设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长;采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术,是沉积高质量
  • 2023-03-20 17:35  [广东深圳市]
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LPCVD设备
  • LPCVD设备
  • 小型管式LPCVDLPECVD是在低压高温的条件下,通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及Poly及Po
  • 2023-03-20 17:28  [广东深圳市]
  •   VIP 鹏城半导体技术(深圳)有限公司  [已核实]
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