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PECVD设备
  • PECVD设备
  • PECVD设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长;采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术,是沉积高质量
  • 2023-03-24 11:45  [广东深圳市]
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LPCVD设备
  • LPCVD设备
  • LPECVD是在低压高温的条件下,通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及Poly及Poly硅薄膜)。
  • 2023-03-27 17:15  [广东深圳市]
  •   VIP 鹏城半导体技术(深圳)有限公司  [已核实]
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